卷绕式真空镀膜设备(RPVD)
1)各功能性膜层可以在一台高度集成的多腔室设备中,在不破真空的条件下,一步工序完成生长(All-in-one)
2) 各膜层的生长都是溅射工艺完成
3) 工艺制程的精确控制,获得高产能、高良率和低成本的生产技术
1)各功能性膜层可以在一台高度集成的多腔室设备中,在不破真空的条件下,一步工序完成生长(All-in-one)
2) 各膜层的生长都是溅射工艺完成
3) 工艺制程的精确控制,获得高产能、高良率和低成本的生产技术
整套卧式在线晶圆连续镀膜设备,可同时在晶圆上实现双面镀膜,并附带载板返回系统,在进片侧实现基片的上、下料。