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卷绕式真空镀膜设备(RPVD)缩略图

卷绕式真空镀膜设备(RPVD)

1)各功能性膜层可以在一台高度集成的多腔室设备中,在不破真空的条件下,一步工序完成生长(All-in-one)

2) 各膜层的生长都是溅射工艺完成

3)  工艺制程的精确控制,获得高产能、高良率和低成本的生产技术

磁控溅射镀膜设备(PVD)缩略图

磁控溅射镀膜设备(PVD)

整套卧式在线晶圆连续镀膜设备,可同时在晶圆上实现双面镀膜,并附带载板返回系统,在进片侧实现基片的上、下料。

  1. 一站式双面镀膜,扩展性好,快速均匀的加热系统设计
  2. 通过阴极结构和腔体设计高效配合保证大尺寸载板下镀膜均匀性及重复性
  3. 单台产能≥500MW
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